Appier 展示人工智慧在服裝設計領域的創造力

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本新聞稿由 Appier 提供。

 

專精於人工智慧的新創公司沛星互動科技 (Appier) 於第 32 屆美國人工智慧年會 (AAAI) 中,針對「AI 創造力」發表前瞻性研究成果,展現 AI 在服裝搭配與設計領域的突破性進展。許多人認為,人工智慧技術的下一個重大突破將實現在其創造與設計的能力,而 Appier 這次的研究成果則實踐了該想法 --- 在不久的將來,AI 將能掌握設計脈動並貢獻各種創意構想,成為設計師的得力助手。

今年代表 Appier 參與 AAAI 的研究團隊是由 Appier 資料科學家施詠翔、張楷岳、Appier 首席資料科學家林軒田和國立清華大學電機系孫民教授所組成。團隊透過深度學習技術設計 Projected Compatibility Distance (PCD) 數學模型去自動學習與分析服飾搭配原則,了解服飾造型之間的搭配關係與技巧,讓機器擁有類似人類的創意以及穿搭思維。

同時,團隊將 PCD 模型接上生成對抗網路 (Generative Adversarial Networks, GANs),讓電腦透過辨識與分析現有的圖像,產生獨特新穎的設計服飾。這些由 AI 所設計的服飾,能夠真實反映出設計師的創意理念與搭配技巧。

Appier 執行長暨共同創辦人游直翰表示:「這次 Appier 團隊的研究成果,展現了 AI 在實現創造力方面的重大進展。一直以來,Appier 希望將 AI 帶到人類生活的各個面向,其中也包含了創意的展現。不過,這並不代表 AI 將帶來威脅,相反地,它將能為設計師提供許多協助。在 Appier,我們鼓勵所有員工能針對各種具有研究價值與發展潛力的 AI 創新研究專案與學界進行交流,進而消弭產學間的資訊落差。這次團隊所合力完成的前瞻性研究論文能被 AAAI 所收錄,就是一個藉由產學合作激發 AI 創新研發能量的實例。」

Appier 首席資料科學家林軒田表示:「Appier 將人工智慧運用在克服『服飾搭配與設計』這個挑戰,主要是因為服飾穿搭本身就有一定的複雜程度,而這個應用在商業領域也具有相當大的發展性。因此,我們運用深度學習模型以及生成對抗網路 (GANs),來驗證 AI 在創意面向所展現的潛力。在實驗中,由 AI 所設計與搭配的服飾很輕易地就獲得大多數受試者的喜愛,給了我們很大的鼓舞!」

由 Appier 研發團隊所撰寫並以「Compatibility Family Learning for Item Recommendation and Generation」為主題之論文,可至 此處 下載。

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